現(xiàn)代薄膜涂布鍍層工藝在進(jìn)行在線(xiàn)生產(chǎn)過(guò)程中，需要對(duì)膜厚及涂層厚度進(jìn)行實(shí)時(shí)的在線(xiàn)測(cè)厚，由于傳統(tǒng)的射線(xiàn)類(lèi)膜厚檢測(cè)儀檢測(cè)精度低、易偏移、難于校準(zhǔn)等缺點(diǎn)給實(shí)際的工藝產(chǎn)品質(zhì)量控制造成了很大的影響，SIMV涂層(膜厚)在線(xiàn)測(cè)厚儀，采用納米光學(xué)干涉的方式，可同時(shí)對(duì)20層不用涂層、薄膜進(jìn)行同時(shí)測(cè)量，同時(shí)精度高達(dá)1nm，完美的解決了傳統(tǒng)射線(xiàn)類(lèi)在線(xiàn)測(cè)厚儀有輻射、偏移周期長(zhǎng)、檢測(cè)精度低、不能檢測(cè)涂層厚度的缺點(diǎn)。賽默斐視涂層厚度在線(xiàn)測(cè)厚儀檢測(cè)精度高，同時(shí)能夠?qū)崟r(shí)在線(xiàn)自動(dòng)校準(zhǔn)，有效的保證了在線(xiàn)測(cè)厚儀的檢測(cè)精度。

　　【檢測(cè)原理】

　　當(dāng)特定波長(zhǎng)的光通過(guò)不同的的材料(不同的厚度、密度、成分)時(shí)，經(jīng)過(guò)表面及內(nèi)部多次反射之后形成的光譜條紋是完全不一樣的，系統(tǒng)通過(guò)分析所接收到的反射光的光譜干涉條紋特性，與系統(tǒng)庫(kù)中的光譜曲線(xiàn)進(jìn)行匹配和對(duì)比，同時(shí)進(jìn)行特征曲線(xiàn)的仿真和擬合，進(jìn)而對(duì)每種不同成分厚度的涂層進(jìn)行在線(xiàn)測(cè)量。

　　1.入射光在膜的上下表面發(fā)生多次反射。

　　2.反射光的強(qiáng)度和薄膜折射率，基底(substrate)折射率及膜厚，波長(zhǎng)有關(guān)。

　　3.在已知折射率的情況下，根據(jù)測(cè)量出的反射光強(qiáng)和波長(zhǎng)的函數(shù)，計(jì)算出膜厚。

　　由上面兩張圖片對(duì)比可以發(fā)現(xiàn)，特定波長(zhǎng)的光經(jīng)過(guò)某種不同的材料(不同厚度、密度、類(lèi)型)內(nèi)部反射之后所產(chǎn)生的光譜干涉條紋完全不同，如上圖圖中黑色線(xiàn)條部分，根據(jù)每種干涉條紋與系統(tǒng)庫(kù)中的條紋進(jìn)行對(duì)比仿真擬合，從而檢測(cè)出實(shí)際的材料厚度。

　　【系統(tǒng)功能】

　　【軟件介紹】

　　軟件主界面基本示意如下圖所示：

　　【現(xiàn)場(chǎng)應(yīng)用】

　　涂層/膠層在線(xiàn)測(cè)厚系統(tǒng)在保護(hù)膜、膠帶的現(xiàn)場(chǎng)應(yīng)用如下圖所示。